第一種形式在小規(guī)模低等級(jí)要求的潔凈室設(shè)計(jì)中被廣泛應(yīng)用，對(duì)于大面積高等級(jí)的潔凈室則存在運(yùn)行成本過(guò)高、占用空間過(guò)大等缺點(diǎn)。

　　第二種形式的設(shè)計(jì)可以滿(mǎn)足集成電路制造潔凈室大面積高等級(jí)的要求，但運(yùn)行成本較高，并且潔凈室風(fēng)速、風(fēng)量調(diào)節(jié)困難，系統(tǒng)升級(jí)改造困難，因此操作靈活性很低。

　　第三種的FFU循環(huán)系統(tǒng)不僅節(jié)省運(yùn)行空間、潔凈度安全性高、運(yùn)行成本低，而且操作靈活性很高，可以在不影響生產(chǎn)的情況下隨時(shí)進(jìn)行系統(tǒng)升級(jí)和調(diào)整，這些都能很好地滿(mǎn)足半導(dǎo)體制造的需求，因此在半導(dǎo)體制造業(yè)FFU循環(huán)系統(tǒng)逐漸成為最主要的潔凈設(shè)計(jì)方案。

　　FFU層流罩循環(huán)系統(tǒng)的特點(diǎn)是：整個(gè)潔凈室由靜壓層、工藝層、工藝輔助層和回風(fēng)通道組成，由FFU提供循環(huán)空氣的動(dòng)力，將新風(fēng)、循環(huán)風(fēng)混合后通過(guò)超高效過(guò)濾器送入工藝層和工藝輔助層，靜壓層相對(duì)于工藝層為負(fù)壓。此外，還有生產(chǎn)輔助區(qū)為集成電路制造廠(chǎng)務(wù)設(shè)備區(qū)域，包括電力供應(yīng)、氣體和化學(xué)品供應(yīng)、超純水供應(yīng)等。